金融界2023年11月22日消息，据国家知识产权局公告，沈阳富创精密设备股份有限公司取得一项名为“一种用于半导体生产线上的低振动真空阀门”，授权公告号CN116972185B，申请日期为2023年9月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种用于半导体生产线上的低振动真空阀门，涉及真空矩形阀门技术领域。该用于半导体的真空低振动阀门，包括外框架，所述外框架上端设置有真空腔体，所述真空腔体下端连接有腔体连接板，所述真空腔体内部设置有阀门板，所述阀门板下端连接有波纹管一体轴，所述腔体连接板下表面两侧设置有气动固定座，所述气动固定座下端连接有气动组件，所述气动组件下端连接有连接座，所述连接座上端设置有连杆支撑板，所述连杆支撑板与连接座内部固定连接有下滑块，所述限位块下端设置有花键轴，所述花键轴外表面包裹有弹簧，所述花键轴外表面一周设置有上滑块，所述连杆支撑板上表面前端设置有四个转动底座，所述摆动杆与转动底座连接处设置有转动轴。